簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果:共1筆資料 檢索策略: "應用科技研究所".dept (精準) and ckeyword.raw="Cu\u002DSiO2"


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    共濺鍍法沉積銅摻雜二氧化矽薄膜的電阻切換特性之研究
    • /98/ 碩士
    • 研究生: 利嘉仁 指導教授: 周賢鎧
    • 本研究使用Cu和SiO2靶材以共濺鍍法製備50nm厚之Cu-SiO2薄膜,Cu-SiO2薄膜之Cu/(Cu+Si)原子比為19.9%,經由XPS和TEM之結果可以確認中間層的型態為大小約為4~6nm…
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