檢索結果:共1筆資料 檢索策略: "應用科技研究所".dept (精準) and ckeyword.raw="Cu\u002DSiO2"
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本研究使用Cu和SiO2靶材以共濺鍍法製備50nm厚之Cu-SiO2薄膜,Cu-SiO2薄膜之Cu/(Cu+Si)原子比為19.9%,經由XPS和TEM之結果可以確認中間層的型態為大小約為4~6nm…